过度暴露
FREMIN GALLERY
- 展期
- 2026年7月16日 – 2026年8月30日
- 价格
- 免费入场

灵感来源于摄影及其过曝效果,本次联展探索视觉感知之限。六位艺术家——伊米丽·阿诺、乔纳斯·勒希、奥列利安·库普、本努瓦特·卢皮、玛莉姆·古尔多姆和克莱欧拉·卡尔塔里— 提出了光线、纹理和饱和度相遇,创造出全新感官体验的作品。展览关注过度曝光的光线如何改变我们对世界的看法,从而改变表面和细节。鉴于摄影的历史和它对当代艺术的影响,这一探索尤其具有重要意义。迄今为止未曾呈现的选作将于8月30日结束。开幕式将于2月16日GMT+2时举行。本次展览是发现创新且令人振奋的作品的绝佳机会。